┌───────────────────────┬─────────────────────────────┬──────────┬──────────────────────┐
│ Наименование работ │ Объемы финансирования │ Всего │ Состояние выполнения │
│ Программы │ из бюджета Союзного │за 1998 - │работ на 01.01.2002 г.│
│ │ государства, всего: │ 2003 гг. │ │
│ │ Россия/Беларусь │ │ │
│ │ (тыс. российских рублей) │ │ │
│ ├────────┬────────┬───────────┤ │ │
│ │ 1998 - │2002 г. │ 2003 г. │ │ │
│ │2001 гг.│ план │предложение│ │ │
│ │ факт │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│1. Разработка │ 3640,0:│ - │ - │ 3640,0: │Разработан типовой │
│технологии и │ 2050,0/│ │ │ 2050,0/ │технологический │
│создание гаммы │ 1590,0 │ │ │ 1590,0 │процесс центрирования │
│центрировочных │ │ │ │ │оптических деталей. │
│станков с │ │ │ │ │Разработана КД на 4-е │
│вертикальным │ │ │ │ │наименования станков │
│расположением │ │ │ │ │(АЦС-25, ЦС-25, │
│шпинделей изделия │ │ │ │ │ЦСП-25, СЦ-50К). │
│для обработки │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│оптических деталей │ │ │ │ │образец базового │
│диаметром от 3 мм │ │ │ │ │центрировочного станка│
│до 50 мм с │ │ │ │ │мод. АЦС-25. │
│встроенной лазерной │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│системой контроля │ │ │ │ │образец лазерного │
│величины │ │ │ │ │прибора контроля │
│децентричности в │ │ │ │ │децентрирования. │
│процессе обработки. │ │ │ │ │ │
│Разработка КД 4-х │ │ │ │ │ │
│моделей станков: │ │ │ │ │ │
│АЦС-25, ЦС-25, │ │ │ │ │ │
│ЦСП-25, СЦ-50К. │ │ │ │ │ │
│Изготовление │ │ │ │ │ │
│базовой модели │ │ │ │ │ │
│станков АЦС-25. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│2. Разработка │ 4090: │ 950,0:│ 6250,0: │ 11290,0 │Разработан типовой │
│технологии │ 2900/ │-/950,0 │ 1000,0/ │ 3900,0/ │технологический │
│"комбинированного" │ 1190,0 │ │ 5250,0 │ 7390,0 │процесс центрирования │
│центрирования и │ │ │ │ │и фасетирования │
│фасетирования и │ │ │ │ │оптических деталей. │
│создание гаммы │ │ │ │ │Разработана КД на 4 │
│центрировочных │ │ │ │ │модели центрировочных │
│станков с │ │ │ │ │станков с вертикальным│
│вертикальным │ │ │ │ │расположением │
│расположением │ │ │ │ │шпинделей (ЦС-100; │
│шпинделей для │ │ │ │ │АЦС-100; ЦСП-100; │
│обработки │ │ │ │ │СЦ-100К). │
│оптических деталей │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│от 20 мм до 350 мм │ │ │ │ │образец базового │
│с встроенной │ │ │ │ │центрировочного │
│лазерной системой │ │ │ │ │станка мод. АЦС-100. │
│контроля величины │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│децентричности в │ │ │ │ │образец лазерного │
│процессе обработки. │ │ │ │ │прибора контроля │
│Разработка КД 5-ти │ │ │ │ │децентрирования. │
│моделей станков: │ │ │ │ │ │
│АЦС-100, ЦС-100, │ │ │ │ │ │
│ЦСП-100, СЦ-100К, │ │ │ │ │ │
│ЦС-350. │ │ │ │ │ │
│Изготовление │ │ │ │ │ │
│базовых моделей │ │ │ │ │ │
│станков АЦС-100, │ │ │ │ │ │
│СЦ-100К. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Разработка КД и │ │ - │ 6250,0: │ │ │
│изготовление │ │ │ 1000,0/ │ │ │
│центрировочного │ │ │ 5250,0 │ │ │
│станка мод. ЦС-350. │ │ │ │ │ │
│Изготовление │ │ │ │ │ │
│центрировочного │ │ │ │ │ │
│станка мод. СЦ-100К. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│3. Разработка │ 2100,0:│ - │ - │ 2100,0: │Разработан типовой │
│технологии │ 2000,0/│ │ │ 2000,0/ │технологический │
│предварительного │ 100,0 │ │ │ 100,0 │процесс │
│шлифования │ │ │ │ │предварительного │
│кольцевым алмазным │ │ │ │ │шлифования кольцевым │
│инструментом и │ │ │ │ │алмазным инструментом.│
│создание гаммы │ │ │ │ │Разработана КД и │
│сферошлифовальных │ │ │ │ │изготовлены опытные │
│станков, работающих │ │ │ │ │образцы станков мод. │
│в "жестких осях" │ │ │ │ │АШС-35, АШС-35М и │
│для обработки линз │ │ │ │ │АШС-100. │
│(блоков) диаметром │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│от 5 до 100 мм с │ │ │ │ │образец прибора │
│встроенной системой │ │ │ │ │бесконтактного │
│бесконтактного │ │ │ │ │контроля точности │
│контроля точности │ │ │ │ │формы и толщины в │
│формы и толщины в │ │ │ │ │процессе обработки ОД.│
│процессе обработки. │ │ │ │ │ │
│Разработка КД и │ │ │ │ │ │
│изготовление │ │ │ │ │ │
│3-х мод. станков: │ │ │ │ │ │
│АШС-35; АШС-35М и │ │ │ │ │ │
│АШС-100. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│4. Разработка │ 7396,5:│ 650,0:│ - │ 8046,5: │Разработан типовой │
│технологии │ 150,0/│-/650,0 │ │ 150,0/ │технологический │
│предварительного │ 7246,5 │ │ │ 7896,5 │процесс │
│шлифования кольцевым │ │ │ │ │предварительного │
│алмазным инструментом и│ │ │ │ │шлифования кольцевым │
│создание │ │ │ │ │алмазным инструментом.│
│быстропереналаживаемого│ │ │ │ │Разработана КД и │
│универсального станка │ │ │ │ │изготовлен опытный │
│мод. АШС-300, │ │ │ │ │образец станка мод. │
│работающего в "жестких │ │ │ │ │АШС-300. │
│осях" для обработки │ │ │ │ │Изготовлен опытный │
│линз (блоков) диаметром│ │ │ │ │образец прибора │
│от 100 до 300 мм с │ │ │ │ │бесконтактного │
│встроенной системой │ │ │ │ │контроля точности │
│бесконтактного контроля│ │ │ │ │формы и толщины в │
│точности формы и │ │ │ │ │процессе обработки ОД.│
│толщины в процессе │ │ │ │ │ │
│обработки. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│5. Исследование и │11234,9:│11150,0:│ 1850,0: │ 24234,9: │ │
│разработка │ 3400,0/│ 2300,0/│/1850,0 │ 5700,0/ │ │
│технологических │ 7834,9 │ 8850,0 │- │ 18534,9 │ │
│процессов и создание │ │ │ │ │ │
│комплекса специального │ │ │ │ │ │
│оборудования для │ │ │ │ │ │
│автоматизированного │ │ │ │ │ │
│формообразования │ │ │ │ │ │
│высокоточных │ │ │ │ │ │
│асферических │ │ │ │ │ │
│поверхностей (2-го и │ │ │ │ │ │
│высших порядков │ │ │ │ │ │
│крутизны) линз │ │ │ │ │ │
│диаметром до 100 мм в │ │ │ │ │ │
│серийном производстве │ │ │ │ │ │
│по всем технологическим│ │ │ │ │ │
│пределам, в том числе: │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│5.1. на заготовительных│ 4546,7:│ 2300,0:│ - │ 6846,7: │Разработана КД и │
│операциях станок мод. │/4546,7 │/2300,0 │ │-/6846,7 │изготовлен опытный │
│"Асфероид-100М". │- │- │ │ │образец станка мод. │
│ │ │ │ │ │"Асфероид-100М". │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│5.2. на операции │ 2927,9:│ 2300: │ 900,0 │ 6127,9 │опытные образцы │
│тонкого алмазного │ 700,0/│/2300,0 │-/900,0 │ 700,0/ │станков мод. │
│шлифования станки │ 2227,9 │ - │ │ 5427,9 │"Астероид-100Т" (без │
│мод. "Асфероид-100Т" │ │ │ │ │СУ) и АШП-200. │
│и АШП-200. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Отладка, проведение │ │ │ 900,0 │ │ │
│приемочных и │ │ │-/900,0 │ │ │
│технологических │ │ │ │ │ │
│испытаний. Разработка │ │ │ │ │ │
│базовой технологии. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│5.3. на операции │ 3760,3:│ 6550,0:│ 950,0: │ 11260,3: │Разработана КД и │
│полирования станки мод.│ 2700,0/│ 2300,0/│-/950,0 │ 5000,0/ │изготовлены опытные │
│"Асфероид-100П", АФ-90.│ 1060,3 │ 4250,0 │ │ 6260,3 │образцы станков мод. │
│ │ │ │ │ │"Асфероид-100П" (без │
│ │ │ │ │ │СУ) и АФ-90. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Отладка, проведение │ │ │ 950,0: │ │ │
│приемочных и │ │ │-/950,0 │ │ │
│технологических │ │ │ │ │ │
│испытаний, разработка │ │ │ │ │ │
│базовой технологии. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│6. Разработка │ 4050,0:│ - │ - │ 4050,0: │Разработан типовой │
│технологии │ 3800,0/│ │ │ 3800,0/ │технологический │
│автоматизированного │ 250,0 │ │ │ 250,0 │процесс │
│формообразования │ │ │ │ │автоматизированного │
│высокоточных оптических│ │ │ │ │формообразования │
│деталей (в т.ч. │ │ │ │ │оптических, в т.ч. │
│асферических), │ │ │ │ │асферических (в т.ч. │
│диаметром от 70 до 250 │ │ │ │ │внеосевых) │
│мм, методом │ │ │ │ │поверхностей деталей. │
│"малоразмерного │ │ │ │ │Разработана КД и │
│инструмента" и создание│ │ │ │ │изготовлен опытный │
│на ее базе │ │ │ │ │образец │
│автоматизированного │ │ │ │ │автоматизированного │
│комплекса обработки, │ │ │ │ │комплекса на базе │
│контроля и │ │ │ │ │станка мод. АД-250. │
│математического │ │ │ │ │ │
│обеспечения. │ │ │ │ │ │
│Станок (модуль) мод. │ │ │ │ │ │
│АД-250. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│7. Разработка │ 2800,0:│ - │ 1600,0: │ 4400: │Разработана КД и │
│автоматизированного │ 2800,0/│ │ 1600,0/- │ 4400,0/-│изготовлены базовые │
│технологического │ - │ │ │ │опытные образцы │
│комплекса и технологии │ │ │ │ │вакуумных модулей мод.│
│ионно-лучевого │ │ │ │ │ВУ-ИЛО применительно к│
│формообразования │ │ │ │ │серийно выпускаемым │
│высокоточных оптических│ │ │ │ │вакуумным установкам: │
│деталей диаметром до │ │ │ │ │ВУ-1А, ВУ-1А-ИЛО, │
│200 мм с применением │ │ │ │ │ВУ-2М, ВУ-2М-ИЛО-АВТО.│
│метода │ │ │ │ │ │
│пространственного и │ │ │ │ │ │
│временного управления │ │ │ │ │ │
│ионным пучком. │ │ │ │ │ │
│Вакуумные модули мод. │ │ │ │ │ │
│ВУ-ИЛО; ВУ-1А-ИЛО; │ │ │ │ │ │
│ВУ-2М-ИЛО-АВТО. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Отработка технологии │ │ │ 1600: │ │ │
│ионно-лучевого │ │ │ 1600,0/- │ │ │
│формообразования в │ │ │ │ │ │
│вакууме для оптических │ │ │ │ │ │
│деталей, │ │ │ │ │ │
│предназначенных для │ │ │ │ │ │
│работы в ИК области │ │ │ │ │ │
│спектра. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│8. Исследование и │ 3805,7:│ 2860,7:│ 9900,0 │ 16566,4: │Разработаны │
│разработка │/3805,7 │/2860,7 │ 2000,0/ │ 2000,0/ │технологические │
│технологических │- │ - │ 7900,0 │ 14566,4 │процессы получения │
│процессов нанесения │ │ │ │ │высокопрочных │
│оптических покрытий с │ │ │ │ │многослойных │
│высокими │ │ │ │ │зеркальных и │
│эксплуатационными │ │ │ │ │узкополосных фильтров,│
│характеристиками и │ │ │ │ │в т.ч. со слоями │
│создание на их основе │ │ │ │ │неравной оптической │
│гаммы │ │ │ │ │толщины с полосой │
│специализированных │ │ │ │ │пропускания Дельта │
│вакуумных установок, │ │ │ │ │лямбда 0,5/лямбда max │
│оснащенных базовым │ │ │ │ │< 0,05 и стабильностью│
│комплектом источников │ │ │ │ │Дельта лямбда < 1 - 2 │
│излучения и приборами │ │ │ │ │мкм для видимого и ИК │
│контроля и управления │ │ │ │ │(0,8 до 10,6 мкм) │
│параметрами процесса. │ │ │ │ │диапазонов спектра, не│
│Создание │ │ │ │ │имеющих полос │
│автоматизированной │ │ │ │ │поглощения, с │
│базовой вакуумной │ │ │ │ │использованием │
│установки мод. ВУ-3. │ │ │ │ │ионно-лучевых │
│ │ │ │ │ │источников и │
│ │ │ │ │ │созданного │
│ │ │ │ │ │акустооптического │
│ │ │ │ │ │спектрофотометра, на │
│ │ │ │ │ │базе вакуумных │
│ │ │ │ │ │установок мод. ВУ-2М │
│ │ │ │ │ │и ВУ-1А. │
│ │ │ │ │ │Разработана КД на │
│ │ │ │ │ │базовую вакуумную │
│ │ │ │ │ │установку мод. ВУ-3. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Разработка базовой │ │ │ 9900,0: │ │ │
│технологии нанесения │ │ │ 2000,0/ │ │ │
│многослойных │ │ │ 7900,0 │ │ │
│просветляющих покрытий,│ │ │ │ │ │
│содержащих │ │ │ │ │ │
│неравнотолщинные слои │ │ │ │ │ │
│оксидов и фторидов с │ │ │ │ │ │
│остаточным │ │ │ │ │ │
│коэффициентом отражения│ │ │ │ │ │
│R < 0,5%. │ │ │ │ │ │
│Изготовление │ │ │ │ │ │
│автоматизированной │ │ │ │ │ │
│базовой вакуумной │ │ │ │ │ │
│установки мод. ВУ-3. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│9. Разработка и │ 9274,4:│ 1000,0:│ 5500,0: │ 15774,4: │Разработана КД и │
│изготовление опытных │ 9124,4/│ 1000,0/│ 5500,0/- │ 15624,4/ │изготовлены 6 │
│образцов приборов для │ 150,0 │ - │ │ 150,0 │наименований │
│цехового и │ │ │ │ │фотоэлектрических │
│аттестационного │ │ │ │ │компьютеризированных │
│бесконтактного контроля│ │ │ │ │приборов для цехового │
│технологических │ │ │ │ │и аттестационного │
│параметров (точность │ │ │ │ │контроля параметров │
│формы, шероховатость, │ │ │ │ │оптических деталей │
│класс чистоты, │ │ │ │ │(форма, │
│децентричность и др.) │ │ │ │ │децентричность, │
│сферических, │ │ │ │ │толщина, косина и │
│асферических и плоских │ │ │ │ │т.д.) │
│деталей. │ │ │ │ │ │
│Разработка 7-ми │ │ │ │ │ │
│моделей приборов │ │ │ │ │ │
│(фотоэлектрические, │ │ │ │ │ │
│голографические и др. │ │ │ │ │ │
│системы). │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Изготовление │ │ │ 5500,0: │ │ │
│компьютеризированного │ │ │ 5500,0/- │ │ │
│прибора для контроля │ │ │ │ │ │
│микрооптики и │ │ │ │ │ │
│проведение испытаний. │ │ │ │ │ │
│Разработка программного│ │ │ │ │ │
│обеспечения │ │ │ │ │ │
│автоматизированных │ │ │ │ │ │
│методов обработки │ │ │ │ │ │
│интерферограмм │ │ │ │ │ │
│различного типа для │ │ │ │ │ │
│условий массового │ │ │ │ │ │
│аттестационного │ │ │ │ │ │
│контроля формы │ │ │ │ │ │
│оптических поверхностей│ │ │ │ │ │
│и деталей с │ │ │ │ │ │
│возможностью отбраковки│ │ │ │ │ │
│по цифровым критериям │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│10. Создание │10874,4:│ 5753,0:│ 6300,0: │ 22927,4: │Разработана КД на 4-е │
│унифицированной гаммы │10874,4 │ 5753,0/│ 6300,0/- │ 22927,4/-│наименования │
│специальных доводочных │/- │ - │ │ │автоматизированных │
│технологических │ │ │ │ │(компьютеризированных)│
│комплексов для │ │ │ │ │доводочных комплексов │
│автоматизированного │ │ │ │ │мод. АПД-1000, │
│формообразования │ │ │ │ │АПД-1000В, АПД-2000, │
│методом программной │ │ │ │ │АПД-500. Изготовлены │
│обработки малоразмерным│ │ │ │ │опытные образцы │
│инструментом │ │ │ │ │станков мод. АПД-1000,│
│высокоточных ОД │ │ │ │ │АПД-1000В │
│диаметром от 250 до │ │ │ │ │ │
│4000 мм │ │ │ │ │ │
│Разработка 4-х мод. │ │ │ │ │ │
│станков типа АПД-1000, │ │ │ │ │ │
│АПД-1000В, АПД-2000, │ │ │ │ │ │
│АПД-500. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Изготовление и │ │ │ 6300,0: │ │ │
│технологические │ │ │ 6300,0/- │ │ │
│испытания │ │ │ │ │ │
│компьютеризированного │ │ │ │ │ │
│комплекса АПД-500. │ │ │ │ │ │
│Технологические │ │ │ │ │ │
│испытания │ │ │ │ │ │
│компьютеризированного │ │ │ │ │ │
│комплекса АПД-2000. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│11. Разработка │ 6350,0:│ - │ - │ 6350,0: │Разработаны типовые │
│технологических │ 6300,0/│ │ │ 6300,0/ │технологические │
│процессов тонкого │ 50,0 │ │ │ 50,0 │процессы тонкого │
│алмазного шлифования и │ │ │ │ │алмазного шлифования и│
│скоростного полирования│ │ │ │ │скоростного │
│и создание оборудования│ │ │ │ │полирования плоских ОД│
│для двухсторонней │ │ │ │ │диаметром от 3 до 300 │
│обработки плоских ОД │ │ │ │ │мм. │
│диаметром от 3 до 300 │ │ │ │ │Разработана КД на 6-ть│
│мм (в т.ч. "тонких" с │ │ │ │ │моделей станков для │
│относительной толщиной │ │ │ │ │двухсторонней │
│менее 1:10). │ │ │ │ │обработки плоских │
│Разработка станков мод.│ │ │ │ │оптических деталей. │
│СДШ-150Т; СДП-150Т; │ │ │ │ │Изготовлены опытные │
│СДШ-З00М; СДП-З00М. │ │ │ │ │образцы станков мод. │
│ │ │ │ │ │СДШ-150Т; СДП-150Т; │
│ │ │ │ │ │СДШ-300М; СДП-300М. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│12. Создание гаммы │ 5900,0:│ 2500,0:│ 6200,0: │ 14600,0: │Разработана КД на │
│специальных │ 5900,0/│ 2500,0/│ 6200,0/- │ 14600,0/-│станки мод. ЗША-100, │
│станков-автоматов для │ - │ - │ │ │ЗП-50К,ЗП-30. │
│тонкого алмазного │ │ │ │ │Разработаны │
│шлифования и │ │ │ │ │технические │
│скоростного полирования│ │ │ │ │предложения на станки │
│серийных сферических ОД│ │ │ │ │- автоматы для тонкого│
│диаметром до 100 мм. │ │ │ │ │шлифования оптических │
│Разработка станков мод.│ │ │ │ │деталей мод. АШ-З0К, │
│ЗША-100, ЗП-50К, СЦ-70.│ │ │ │ │АШ-З0К-1, АШ-100К и │
│ │ │ │ │ │АШ-100К-1. │
│ │ │ │ │ │Изготовлены опытные │
│ │ │ │ │ │образцы станков мод. │
│ │ │ │ │ │ЗША-100, ЗП-50К и │
│ │ │ │ │ │СЦ-70. │
│ │ │ │ │ │Проведены │
│ │ │ │ │ │технологические │
│ │ │ │ │ │испытания станков мод.│
│ │ │ │ │ │ЗША-100 и ЗП-50К. │
│ │ │ │ │ │Разработаны типовые │
│ │ │ │ │ │технологические │
│ │ │ │ │ │процессы шлифования и │
│ │ │ │ │ │полирования │
│ │ │ │ │ │применительно к │
│ │ │ │ │ │станкам мод. ЗША-100 │
│ │ │ │ │ │ЗП-50К. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Проведение исследований│ │ │ 6200,0: │ │ │
│по технологии │ │ │ 6200,0/- │ │ │
│супертонкого шлифования│ │ │ │ │ │
│оптических │ │ │ │ │ │
│поверхностей, │ │ │ │ │ │
│разработка и создание │ │ │ │ │ │
│переналаживаемого │ │ │ │ │ │
│компьютеризированного │ │ │ │ │ │
│модуля тонкой шлифовки │ │ │ │ │ │
│кольцевым алмазным │ │ │ │ │ │
│инструментом. │ │ │ │ │ │
│Разработка техпроекта │ │ │ │ │ │
│на сферошлифовальный │ │ │ │ │ │
│станок мод. АШ-30К. │ │ │ │ │ │
│Разработка и создание │ │ │ │ │ │
│компьютеризированной │ │ │ │ │ │
│технологии и │ │ │ │ │ │
│оборудования для │ │ │ │ │ │
│прецизионного │ │ │ │ │ │
│полирования оптических │ │ │ │ │ │
│деталей с помощью │ │ │ │ │ │
│магнито-реологических │ │ │ │ │ │
│жидкостей. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│13. Создание гаммы │ │ │ 3900,0: │ 3900,0: │ │
│полировально - │ │ │ 3900,0/- │ 3900,0/-│ │
│доводочного │ │ │ │ │ │
│оборудования для │ │ │ │ │ │
│обработки высокоточных │ │ │ │ │ │
│ОД класса "пробных │ │ │ │ │ │
│стекол". │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Разработка и │ │ │ 3900,0: │ │ │
│изготовление │ │ │ 3900,0/- │ │ │
│многошпиндельного │ │ │ │ │ │
│полировально - │ │ │ │ │ │
│доводочного │ │ │ │ │ │
│оборудования мод. │ │ │ │ │ │
│ЗПД-320, 4ПД-200, │ │ │ │ │ │
│ЗП-30. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│14. Исследование и │ 2600,0:│ - │ - │ 2600,0: │Проведены исследования│
│разработка │ 2600,0/│ │ │ 2600,0/-│по выбору оптимальных │
│технологических │ -│ │ │ │режимов обработки │
│процессов │ │ │ │ │(полирования) │
│автоматизированного │ │ │ │ │оптических деталей из │
│формообразования │ │ │ │ │карбида кремния (SiC).│
│прецизионных │ │ │ │ │Опробованы различные │
│поверхностей оптических│ │ │ │ │типы алмазных │
│зеркал размером до 1 м │ │ │ │ │инструментов. │
│из нетрадиционных │ │ │ │ │Разработан алмазный │
│трудно обрабатываемых │ │ │ │ │инструмент на │
│материалов (медные │ │ │ │ │эластомерных связующих│
│сплавы, │ │ │ │ │(со связанным │
│УУКМ-углерод-углеродные│ │ │ │ │абразивом), │
│композиционные │ │ │ │ │позволяющий вести │
│материалы) и создание │ │ │ │ │скоростное полирование│
│на их основе 3-х │ │ │ │ │с одновременным │
│наименований │ │ │ │ │обеспечением │
│оборудования. │ │ │ │ │требуемого качества │
│ │ │ │ │ │полированной │
│ │ │ │ │ │поверхности. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│15. Разработка и │10522,6:│ - │ 2500,0: │ 13022,6: │Разработана КД и │
│изготовление опытных │10522,6/│ │ 2500,0/- │ 13022,6/-│изготовлены 4-е │
│образцов приборов для │ -│ │ │ │наименования │
│цехового и │ │ │ │ │фотоэлектрических │
│аттестационного │ │ │ │ │компьютеризированных │
│бесконтактного контроля│ │ │ │ │приборов для контроля │
│конструкторских и │ │ │ │ │качества изображения │
│точностных параметров │ │ │ │ │оптических деталей и │
│(качество изображения, │ │ │ │ │систем. │
│рабочий отрезок, │ │ │ │ │ │
│децентричность и др.) │ │ │ │ │ │
│оптических систем. │ │ │ │ │ │
│Разработка 9-ти моделей│ │ │ │ │ │
│приборов │ │ │ │ │ │
│(фотоэлектрические, │ │ │ │ │ │
│голографические и др. │ │ │ │ │ │
│приборы). │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Разработка и │ │ │ 2500,0: │ │ │
│изготовление │ │ │ 2500,0/- │ │ │
│автоматизированного │ │ │ │ │ │
│унифицированного │ │ │ │ │ │
│анализатора качества │ │ │ │ │ │
│оптического изображения│ │ │ │ │ │
│оптических систем │ │ │ │ │ │
│оптико-электронных │ │ │ │ │ │
│приборов и комплексов. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│16. Разработка и │ 1300,0:│ - │ - │ 1300,0: │Разработано новое │
│создание новых видов │ 1300,0/│ │ │ 1300,0/-│поколение алмазного │
│шлифовальных и │ -│ │ │ │инструмента на │
│полировальных │ │ │ │ │эластомерных │
│материалов и │ │ │ │ │связующих для тонкого │
│инструментов на их │ │ │ │ │и супертонкого │
│основе. │ │ │ │ │шлифования широкой │
│ │ │ │ │ │номенклатуры │
│ │ │ │ │ │оптических деталей из │
│ │ │ │ │ │основных марок стекол │
│ │ │ │ │ │и ряда кристаллических│
│ │ │ │ │ │материалов (кварц, │
│ │ │ │ │ │лейкосапфир, карбид │
│ │ │ │ │ │кремния). │
│ │ │ │ │ │Изготовлены опытные │
│ │ │ │ │ │партии инструментов. │
│ │ │ │ │ │Проведены их │
│ │ │ │ │ │технологические и │
│ │ │ │ │ │производственные │
│ │ │ │ │ │испытания. │
│ │ │ │ │ │Разработан специальный│
│ │ │ │ │ │инструмент со │
│ │ │ │ │ │связанным абразивом │
│ │ │ │ │ │(СПИ) для │
│ │ │ │ │ │бессуспензионного (на │
│ │ │ │ │ │воде) полирования │
│ │ │ │ │ │сферических и плоских │
│ │ │ │ │ │оптических деталей. │
│ │ │ │ │ │Изготовлены опытные │
│ │ │ │ │ │партии инструментов. │
│ │ │ │ │ │Проведены их │
│ │ │ │ │ │технологические и │
│ │ │ │ │ │производственные │
│ │ │ │ │ │испытания. │
│ │ │ │ │ │Разработаны 5-ть новых│
│ │ │ │ │ │видов полирующих │
│ │ │ │ │ │порошков на основе │
│ │ │ │ │ │оксидов редкоземельных│
│ │ │ │ │ │металлов и диоксида │
│ │ │ │ │ │церия. │
│ │ │ │ │ │Изготовлены опытные │
│ │ │ │ │ │партии порошков. │
│ │ │ │ │ │Проведены их │
│ │ │ │ │ │технологические и │
│ │ │ │ │ │производственные │
│ │ │ │ │ │испытания. │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│17. Исследование и │ 2250,0:│ 1000,0:│ 1000,0: │ 4250,0: │Разработана │
│разработка экологически│ 2200,0/│ 1000,0/│ 1000,0/- │ 4200,0/ │экологически чистая │
│чистых технологий: │ 50,0 │ -│ │ 50,0 │технология │
│- получения специальных│ │ │ │ │изготовления алмазного│
│инструментов для │ │ │ │ │инструмента для │
│операций супертонкого │ │ │ │ │тонкого и супертонкого│
│шлифования и │ │ │ │ │шлифования оптических │
│скоростного полирования│ │ │ │ │стекол. │
│со связанным абразивом │ │ │ │ │Разработана │
│на основе новых видов │ │ │ │ │экологически чистая │
│полирующих порошков и │ │ │ │ │технология │
│полировальных │ │ │ │ │изготовления │
│материалов; │ │ │ │ │специального │
│- промышленного │ │ │ │ │инструмента (СПИ) для │
│производства полирующих│ │ │ │ │бессуспензионного (на │
│порошков на основе │ │ │ │ │воде) полирования │
│оксидов редкоземельных │ │ │ │ │оптических деталей. │
│элементов, │ │ │ │ │Разработаны │
│обеспечивающих │ │ │ │ │технологические │
│оптимальные режимы │ │ │ │ │процессы производства │
│обработки оптических │ │ │ │ │полирующих порошков на│
│деталей всех марок │ │ │ │ │основе оксидов │
│стекол. │ │ │ │ │редкоземельных │
│ │ │ │ │ │металлов и диоксида │
│ │ │ │ │ │церия. │
│ │ │ │ │ │Организовано серийное │
│ │ │ │ │ │(3-х модификаций) и │
│ │ │ │ │ │опытно промышленное │
│ │ │ │ │ │(2-х модификаций) │
│ │ │ │ │ │производство │
│ │ │ │ │ │полирующих порошков на│
│ │ │ │ │ │Чепецком механическом │
│ │ │ │ │ │заводе (г. Глазов). │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Разработка │ │ │ 1000,0: │ │ │
│технологических │ │ │ 1000,0/- │ │ │
│процессов создания │ │ │ │ │ │
│материалов и │ │ │ │ │ │
│инструментов на их │ │ │ │ │ │
│основе для получения │ │ │ │ │ │
│сверхгладких │ │ │ │ │ │
│поверхностей. │ │ │ │ │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Всего │88188,5:│25863,7:│45000,0: │159052,2: │ │
│ │65921,4 │12553,0 │30000,0 │108474,4 │ │
│ │------- │------- │------- │--------- │ │
│ │22267,1 │13310,7 │15000,0 │ 50577,8 │ │
├───────────────────────┼────────┼────────┼───────────┼──────────┼──────────────────────┤
│Требуется │ │ │45000,0: │ │ │
│дополнительно │ │ │30000,0 │ │ │
│ │ │ │-------- │ │ │
│ │ │ │15000, │ │ │
└───────────────────────┴────────┴────────┴───────────┴──────────┴──────────────────────┘